日本（běn）大（dà）亞真空集群（qún）型濺射裝置（zhì）

日（rì）本大亞（yà）真空集群型（xíng）濺射裝置

發布時間：2025-09-01

作者（zhě）：愛（ài）銳精密科技（大連）有限公（gōng）司

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產品描述：特點：可實現（xiàn）全自動運行（háng）的高能濺射裝置；可構建包含傳輸室、加載 / 卸載室的集群型結構標準規格濺（jiàn）射室尺寸：350×L270mm；極（jí）限壓（yā）力：×10⁻⁴Pa 以下基板工作台：Φ280，可旋轉；成膜速度：50nm/min（鋁）膜厚分布：±10% 以內；高頻電（diàn）源：300W×2 台

產品特點

日（rì）本大亞真空集群型濺射裝置

特點（diǎn）：可實現全自（zì）動運行的高能濺射裝置；可構建包含傳輸室、加載 / 卸（xiè）載室的集群型結構
標準規格

濺射室尺寸：350×L270mm；
極限（xiàn）壓力：×10⁻⁴Pa 以下
基（jī）板工作台：Φ280，可旋轉；
成膜速度（dù）：50nm/min（鋁）
膜厚分布：±10% 以內；
高頻電源：300W×2 台

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